1. Main System
1) 더블 코팅 방식 : 스파터 코팅 및 카본 증착 코팅
2) 샘플 테이블 작동거리(높이) : 높이 조절 가능 3) 샘플 테이블 직경 : 80mm 이상
4) 행성 타입의 회전 스테이지 : 직경 80mm 5) 코팅 두께를 0.1nm 단위로 설정, 제어, 모니터링
6) 스퍼터링 전류 : 최대 150mA
7) 스퍼터링 소비전력 : 100w
8) 진공챔버 : 전면도어방식, 145x145x150mm
9) 최소 진공도 : 7x10-3mbar 이상
10) 펌핑시간 : 5x10-2mbar 까지 약 2~3분 이내
11) 코팅 시간 설정 : 1 ~ 1800초
12) 코팅 두께 설정 : 1 ~ 1000nm

2. Accessory
1) Rotary Vane Pump and Oil mist filter
2) Carbon thread spool (25m)
3) Platinum target, DN 54 mm
4) Set of quartz crystals (Pack of 10)

주사전자현미경 및 투과전자현미경 분석시료 준비(샘플 표면에 전도성 물질 또는 카본을 코팅하는 목적)으로 이용할 수 있는 필수 기초 장비이며, 다양한 뇌영역에 대한 초고해상도 뇌지도 작성연구 중 나노스케일 뇌신경망 재구성 연구의 시료의 제작에 필수적이다.


연구원에서 보유한 연속블록면 주사전자현미경 및 투과전자현미경 측정용 샘플에 전도성 물질, 카본을 코팅하여 Electron Beam 에 의한 시편 손상, Charging 방지하기 위한 용도로 사용된다. (TEM 그리드 카본 코팅, 불균일한 표면의 균일한 코팅)
1) Sputter Coating 과 Carbon thread evaporation 방식을 동일 장비에서 구현
2) 굴곡이 심한 표면의 균일한 코팅을 위해 스테이지의 높이 조절, 기울임, 회전가능
3) 코팅 두께를 설정, 제어 및 모니터링